پلیمر، پوشش و مولکول های مغناطیس
دانشکده/پژوهشگاه: پژوهشکده لیزرو پلاسما
مسئول: دکتر پورمهدیان
آزمایشگاه پوشش و پلیمر پژوهشکده لیزر و فوتونیک دانشگاه شهید بهشتی در سال 1395 در ساختمان شماره3 واقع در پردیس مرکزی دانشگاه به همت دکتر سعید پورمهدیان تاسیس گردید.
هدف از تاسیس آزمایشگاه پوشش و پلیمر ایجاد مرکزی با اعتبار فنی بالا و تخصص کافی در زمینه علوم و تکنولوژی پلیمر، پوشش ها با تمرکز بر مواد نوین و پیشرفته حتی با کابری های ویژه نظامی است. در عین حال میتواند جوابگوی نیاز صنایع مختلف از جمله صنایع رنگ، پلیمر، نفت، گاز و پتروشیمی و نظامی میباشد.
بر اسا هدف گذاری های انجام شده تجهیز و تکمیل آزمایشگاه پوشش و پلیمر در سه فاز برنامه ریزی گردید و فاز اول در اواخر سال 95 پایان یافت و آزمایشگاه در ابتدای سال 96 راه اندازی گردید.
استفاده از نیروی متخصص و کارآمد از الزامات یک مجموعه توانمند میباشد بر همین اساس سرپرستی پروژه برعهده جناب آقای دکتر سعید پورمهدیان دارای دکترای تخصصی پلیمر و پوشش از کانادا گذاشته شد و از نیروهای متخصص و جوان که همگی فارغ التحصیل از بهترین دانشگاه های کشور هستند، کمک گرفته شده است.
تجهیزات و خدمات
- ضخامت سنجی فیلم نازک(زیرآیند فلزی) ()
- ضخامت سنجی فیلم نازک(زیرآیند غیرفلزی) ()
- تعیین ویسکوزیته با فوردکاپ ()
- تعیین ویسکوزیته با بروکفیلد ()
- پروفایل رئولوژیکی ()
- سنجش دانسیته مایعات با پیکنومتری ()
- فیلم کش ()
- فیلم کش ()
- کراس کات ()
- مندرل مخروطی ()
- مندرل استوانه ای ()
- سختی سنجی مدادی ()
- براقیت سنجی تک زاویه ای ()
- براقیت سنجی دو زاویه ای ()
- براقیت سنجی سه زاویه ای ()
- براقیت سنجی DOI ()
- براقیت سنجی HAZE ()
- پردازش تصویر ()
- آنالیز دانه بندی( اندازه ذرات یا تجمعات) ()
- تعیین وزن مخصوص( دانسیته) ()
- PH متر ()
- تعیین رسانایی محلول ()
- رفرکتومتر ()
- آسیاب و دیسپرس کننده انواع ذرات معدنی و نانوذرات بدون اصلاح سطحی در حلال ها و محمل های پلیمری تا طرفیت یک تا دو کیلوگرم ()
- انواع راکتورهای شیمیایی جهت سنتز مواد شیمیایی آلی با ظرفیت 250سی سی تا 2 کیلوگرم ()
- تعیین درصد جامد وزنی ()
- پشت پوشی ()
- مقایسه ظاهری فیلم ترو خشک ()
- حداکثر میزان جذب ظاهری آب ()
- حداکثر میزان مواد معدنی ()
- حداکثر میزان مواد معدنی ()
- حداقل درصد موادغیرفرار ()
- مقومت در برابر آب ()
- مقاومت در برابر پاک کننده ()
- مقاومت در برابر حلال های نفتی ()
- مقاومت در برابر محلول نمک طعام ()
- مقاومت به ته نشینی ()
- تعیین حداقل دمای تشکیل فیلم ()
- تعیین عدد اسیدی ()
- عدد صابونی شدن ()
- عدد هیدروکسیل ()
- Freeze Thaw Stability ()
- نقطه اشتعال ()
- میزان آب موجود در حلال ها ()
- انواع تیتراسیون ()
- انواع تقطیر ()
- فرمولاسیون حلال ها و تینر های ترکیبی و خاص ()
- شناسایی فرمولاسیون حلال ها و تینرهای ناشناس ()
- فرمولاسیون رنگ ()
- فرمولاسیون رزین پلیمری ()
- فرمولاسیون انواع ترکیبات شیمیایی ()
- ساخت نمونه ازمایشگاهی پلیمرهای امولسیونی، سوسپانسیونی، محلولی ()
- فرمولاسیون چسب ()
- رآکتور شیمیایی پایلوت ()
- اندازه گیری مقاومت در برابر قلیا ()
- تعیین مدت زمان خشک شدن سطحی ()
- تعیین مدت زمان خشک شدن کامل ()
- تعیین حداکثر زمان سخت شدن کامل ()
- تعیین حداکثر میزان جذب آب ()
- تعیین میزان مقاومت در برابر اسید ()
- آزمون لکه گذاری ()
- شناسایی ()